Objetivo de pulverización catódica I-ZnO
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Objetivo de pulverización catódica I-ZnO

Senxiang (Ningbo) New Materials Co., Ltd. ofrece una gama completa de objetivos de pulverización catódica. Aseguramos la disponibilidad a largo plazo de las materias primas, nos esforzamos constantemente para desarrollar nuevos tamaños de productos y formas geométricas, y hacemos que nuestra capacidad de producción se adapte a los requisitos de cantidad de los clientes. Con una enorme capacidad de compra y producción, Senxiang puede proporcionar objetivos de pulverización catódica i-ZnO de alta calidad a un precio competitivo.

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Descripción del Producto

Objetivo de pulverización catódica i-ZnO. El sistema de pulverización catódica de magnetrón de corriente continua (CC) se utiliza para la deposición de la película. Sin/con la técnica de deposición asistida por iones (IAD), las propiedades eléctricas, ópticas y estructurales de estas películas preparadas con diferentes potencias de CC (como 50 W, 80 W y 100 W) son una condición de deposición IZO óptima que es desarrollado para aplicaciones de dispositivos orgánicos emisores de luz (OLED) flexibles.


Parámetro del producto (Especificación)

Composición ZnO
Pureza â¥99.95%
Densidad ï¼g/cm³ï¼ â¥5.4
Resistividad electrica
(Ω.cm)
â¤0.5
Densidad teórica (g/cm3) 5.606
Impureza metálica
(ppm)
Fe 100, Si 100, Na 50, Pb 20, Ca 50, Otros 180
Totalâ¤500
Dimensión (mm) objetivo plano
(50~300 )Lx( 50~250 )Anchox(4~15 )Al
objetivo rotatorio
(133~138 )IDx( 151~169 )ODx( 150~260 )H


Característica y aplicación del producto

Película fina PVãPhotics Glass


Detalles de producto


Etiquetas calientes: I-ZnO Sputtering Target, China, fabricantes, proveedores, fábrica, fabricado en China, personalizado

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