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Blanco de pulverización catódica de aleación planar de antimonuro de galio
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Blanco de pulverización catódica de aleación planar de antimonuro de galio

Para el objetivo de pulverización catódica de aleación plana de antimonida de galio, todos tienen diferentes preocupaciones especiales al respecto, y lo que hacemos es maximizar los requisitos del producto de cada cliente, por lo que la calidad de nuestro objetivo de pulverización catódica de aleación de antimonita de galio ha sido bien recibida por muchos clientes y disfrutó de una buena reputación en muchos países. Senxiang (Ningbo) New Material Co., Ltd. El objetivo de pulverización catódica de aleación de antimonita de galio tiene un diseño característico, un rendimiento práctico y un precio competitivo. Para obtener más información sobre el objetivo de pulverización catódica de aleación de antimonita de galio, no dude en contactarnos.

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Descripción del Producto

Blanco de pulverización catódica de aleación planar de antimoniuro de galio El antimoniuro de galio (GaSb), un tipo de semiconductor de antimoniuro, es un material semiconductor formado por la combinación del elemento del grupo III galio (Ga) y el elemento del grupo V antimonio (Sb). Pertenece al semiconductor de banda estrecha de los compuestos del grupo III-V, con apariencia de cristal blanco grisáceo, sistema de cristal cúbico y estructura de esfalerita. El antimoniuro de galio es un material semiconductor de cuarta generación y también un material de tecnología infrarroja de tercera generación. Su banda de trabajo cubre desde el infrarrojo cercano hasta el infrarrojo lejano, y tiene un gran valor de desarrollo y aplicación. La antimonita de galio (GaSb) es un semiconductor compuesto III-V, que pertenece a la esfalerita y al material de banda prohibida directa, con una banda prohibida de 0.725eV ( 300K) y una constante de red de 0.60959nm. GaSb tiene excelentes propiedades físicas y químicas y se utiliza a menudo como material de sustrato para detectores de infrarrojos y láseres que van desde 8 a 14 mm y más grandes. Además, el GaSb dopado con Te se puede utilizar para preparar dispositivos fotovoltaicos térmicos de alta eficiencia de conversión fotoeléctrica, células solares apiladas y dispositivos de microondas.


Parámetro del producto (Especificación)

Composición GaSb
Pureza â¥99.9%
Densidad personalizado
Talla máxima Lâ¤2000mm,Wâ¤200mm
DO máxima Según cliente
Longitud máxima Según cliente


Característica y aplicación del producto

El objetivo de pulverización catódica de aleación planar de antimonuro de galio tiene excelentes propiedades físicas y químicas y, a menudo, se usa como material de sustrato para detectores infrarrojos y láseres que van desde 8 a 14 mm y más grandes. Además, el GaSb dopado con Te se puede utilizar para preparar dispositivos fotovoltaicos térmicos de alta eficiencia de conversión fotoeléctrica, células solares apiladas y dispositivos de microondas.


Detalles de producto

Nuestro objetivo de pulverización catódica de aleación de antimonita de galio está claramente etiquetado y rotulado externamente para garantizar una identificación y un control de calidad eficientes. Se tiene mucho cuidado para evitar cualquier daño que pueda causarse durante el almacenamiento o el transporte.


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